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计算机芯片巨头 ASML 将赌注押在渺小的未来上

  • 财经

(纳闻记者赵晓辉报导)

荷兰 VELDHOVEN——半导体行业和股票市场巨头 ASML 必须从小处着眼。 或者也许更大。

它正在制造重量超过 200 吨的双层巴士大小的机器,以寻求产生聚焦光束,从而在从手机和笔记本电脑到汽车和人工智能的各种计算机芯片上创建微观电路。

该公司经历了一个美好的十年,其股价飙升 1,000%,市值超过 2000 亿欧元,因为它席卷了全球大部分用于这些光刻系统的业务。

它现在正准备为下一代芯片推出价值 4 亿美元的新机器,希望在 2020 年代后期成为其旗舰产品,但目前仍是一项工程挑战。

ASML 位于荷兰 Veldhoven 镇的总部的高管告诉路透社,原型机有望在 2023 年上半年完成。他们表示,该公司和长期研发合作伙伴 IMEC 正在现场建立一个测试实验室——这是第一次——所以顶级芯片制造商及其供应商可以探索机器的特性,并准备最早在 2025 年使用生产模型。

然而,由于投资者预计进一步的主导地位和增长将证明 ASML 的估值为 2021 年市盈率的 35 倍是合理的,因此如果该公司遇到技术或供应链障碍,几乎没有出错的余地。

“现在每张支票都是绿色的,”ASML EUV 项目负责人 Christophe Fouquet 说。 “但是,你知道,我们仍然必须一起看到这一切(组装)。”

EUV 代表极紫外,即 ASML 最先进机器使用的光波长。

该项目的命运对 ASML 的客户也很重要,芯片制造商在全球短缺的情况下竞相扩大生产。 其中包括美国厂商英特尔、韩国三星和台湾最大的台积电,台积电为苹果、AMD和英伟达等公司生产芯片。

TechInsights 的行业专家 Dan Hutcheson 没有参与 ASML 项目,他表示,这项新技术——被称为 EUV 的“高 NA”版本——可以为一些芯片制造商提供显着优势。

“这有点像谁拥有最好的枪,”他说。

“因此,要么 ASML 让它发生,要么他们不让它发生,”他补充道。 “但如果他们做到了,而你没有收到订单而错过了这一点,你就会立即让自己失去竞争力。”

高数值孔径 EUV ASML 最新产品“High NA EUV”光刻工具的试验模型完成后的外观印象。 (ASML/路透社的讲义)

他表示,台积电在 2010 年代后期首先集成了 ASML 的 EUV 机器,从而使竞争对手黯然失色——英特尔首席执行官 Pat Gelsinger 曾发誓不再使用 High-NA 犯这个错误。

光刻技术是决定芯片上的电路有多小的关键决定因素,High-NA 有望减少 66%。 在芯片制造中越小越好,因为在同一空间中封装的晶体管越多,芯片的速度就越快、能效越高。

电路现在接近原子水平,导致预测“摩尔定律”即将结束,这是 1960 年代著名的观察,微芯片上的晶体管数量大约每两年翻一番。

荷兰银行 InsingerGilissen 的分析师 Jos Versteeg 表示:“如果他们 (ASML) 不成功,那么继续遵循摩尔定律将变得很困难,”尽管他指出工程师过去曾无视过类似的质疑。

ASML 员工 2022 年 1 月,ASML 员工在荷兰 Veldhoven 的公司最新产品部分完成的框架前摆姿势。(ASML/路透社讲义)硅上的第一光

自 2000 年以来,ASML 迅速从日本竞争对手尼康和佳能手中夺取了市场份额,后者现在主要专注于旧技术。 ASML 控制着超过 90% 的光刻市场。 没有竞争对手试图建立 EUV 系统,理由是开发成本高。

ASML 的机器短缺(每台成本高达 1.6 亿美元)是芯片制造商的瓶颈,他们计划在未来几年花费超过 1000 亿美元建造额外的制造工厂以满足需求。

High-NA 机器将比其前身大 30% 左右,后者本身需要三架波音 747 来分段运送它们。

IMEC 是一个与半导体行业公司合作的非营利性研究组织,它认为在 ASML 建立实验室可以节省长达一年的开发时间。

ASML 表示,它有五个试点机器订单,应该在 2024 年交付,还有来自五个不同客户的“超过五个”订单,用于更快的生产模型,从 2025 年开始交付。

但这不是灌篮。

集成大量复杂组件面临着巨大的挑战,包括由德国卡尔蔡司在真空中制造的抛光、超光滑曲面镜的光学系统。

InsingerGilissen 的 Versteeg 表示,虽然 ASML 享有近乎垄断的地位,但其“定价取决于机器的生产力”。 同时,它必须将 EUV 工具出售给数量不断减少的领先芯片制造商,其中包括存储芯片制造商 SK 海力士和美光。

ASML 还与周期性芯片行业的更广泛财富息息相关,一些研究人员预计,该行业的年销售额将在本十年内翻一番,超过 1 万亿美元。

Fouquet 最担心的是供应链问题。

“现在,和其他所有产品一样,我们在供应链中看到了一些压力,如果你今天问我,这可能是我们在使用 High-NA 时面临的最大挑战。”

托比·斯特林

在一张未注明日期的照片中,光学系统已准备好在德国奥伯科亨的 Carl Zeiss SMT 的真空室中进行测试。  (赫尔穆特·伊斯勒蔡司/路透社讲义)