美国对中国芯片禁令不断收紧，中国中芯国际过去几个月似乎持续向高阶芯片迈进。不过，中国想实现芯片自给自足仍面临一些重大挑战，尤其是中芯无法买到艾司摩尔（ASML）EUV曝光机，仅能使用旧设备制造先进芯片，势必面临成本高及良率低等2大挑战，长期可行性存疑。
CNBC报道，专家认为，如果没有 EUV曝光机，中芯将很难制造7纳米及更小的芯片，若能生产，成本也很高。
报道指出，中芯使用旧设备制造先进芯片面临两大挑战，一是成本高，二是良率低、产量少。金融时报日前也引述消息人士的话称，中芯5纳米和7纳米制程芯片价格，比台积电高出40% 至50%。
印度智库Takshashila副所长科塔斯坦（Pranay Kotasthane）表示，中国政府与中芯应该会对先进芯片制程投入资金，随著新一代先进芯片的推出，成本将持续上升，除非中芯能够获得一台 ASML EUV曝光机。
科塔斯坦说，中芯或许会投入更多资金来克服当前的利润率问题，这项投资可能来自政府，因为此事攸关国家威信。不过，每当新一代芯片问世，中芯承担的成本只会更高。除非中国找到 EUV 的替代品，否则成本会不断增加。
专家认为，中国使用旧设备制造先进芯片，面临诸多挑战。
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